基于双光子灰度光刻原理无掩模微纳3D打印

- 适合于制造微光学衍射以及折射元件

Quantum X新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribe****的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的**性能与双光子聚合的精确性和灵活性**结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。

Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点

这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精准同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的**性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。

技术参数

产地：德国全进口

打印技术：双光子灰度光刻 （2GL)

三维横向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

*小表面粗糙度：≤10nm

激光扫描速度：≤250mm/s

关键特性

高速的2.5维微纳制造

光学质量表面和极好的形状精度

亚微米级别加工满足设计自由

超快调整控制打印体素大小，优化打印过程

自动化的打印流程，例如校正、打印和实时

监控 广泛的基板-树脂组合选择

按任务顺序连续进行打印

可触摸屏和远程电脑操控

纳糯三维科技（上海）有限公司作为德国Nanoscribe独资子公司扩大了亚太地区业务范围，同时也加强了售后服务支持。